EBL Sigla di electron beam lithography, che in microelettronica indica un metodo per la realizzazione dei circuiti integrati, nel quale il disegno del layout è ottenuto per esposizione diretta della piastrina di silicio, preventivamente ricoperta da un film di materiale sensibile alle radiazioni (resist), a un fascio elettronico la cui deflessione e intensità sono controllate mediante calcolatore. Dopo l’esposizione, la piastrina è rimossa per i convenzionali processi di sviluppo e incisione. La tecnica dell’EBL permette di ottenere elevatissime risoluzioni, molto al di sotto del micrometro.
EBL
microelettronica Parte dell’elettronica che riguarda la miniaturizzazione dei componenti e dei circuiti elettronici, in particolare la realizzazione dei microelettronicamicrocircuiti o circuiti integrati (IC, integrated circuit) o chip. 1. Sv
wafer In elettronica, lastrina o fetta di materiale semiconduttore (per es., silicio, germanio, arseniuro di gallio), usata come elemento base nella realizzazione di circuiti integrati (➔ microelettronica). I w. sono ottenuti dal monocristallo cilin
impiantazione In fisica e nella tecnica elettronica, impiantazionei. ionica è il processo tecnologico per il drogaggio delle lamine di semiconduttore (tipicamente, di silicio) nella realizzazione di transistori speciali e di circuiti integrati monol
SSI Sigla dell’inglese small scale integration, con cui in elettronica si indica il più basso dei gradi d’integrazione di circuiti integrati (➔ microelettronica), caratterizzato da un numero di transistori per chip inferiore a 100.