Plasma induced Chemical Vapour Deposition

Dizionario delle Scienze Fisiche (1996)

Plasma induced Chemical Vapour Deposition


Plasma induced Chemical Vapour Deposition (PCVD) 〈plasma indiùsid kèmikol vapor diposìsŠon〉 [FTC] [FPL] Locuz. ingl. "deposizione chimica da vapore indotta da plasma" per indicare una tecnica di deposizione di materiali su una superficie: v. guida ottica: III 136 d.

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